Ik ben postdoctoraal onderzoeker in de Nanophotonics group, waar ik me richt op geavanceerde metrologie voor logische halfgeleidercircuits via golffrontregeling, in samenwerking met industriële partners. Mijn onderzoek heeft als doel het ontwikkelen van uiterst nauwkeurige overlay- (OVL) en uitlijnmetrologiemethoden op nanoschaal.

Eerder, tijdens mijn promotieonderzoek, lag mijn focus op computationele beeldvorming, ptychografie en physics-informed machine learning.

Meer over mijn werk is te vinden op mijn website.